USCIS本週審理總結：2026年7月13日至7月19日 NIW/EB1A批准情況

在 2026 年 7 月 13 日至 7 月 19 日這一週，WeGreened 共收到美國移民局（USCIS）發出的 129份批准通知。其中，NIW（國家利益豁免）102件、EB1A（傑出人才）22件、EB1B（傑出教授／研究人員）4件、O1A（傑出才能個人）1件。

本週批准數量再次主要由NIW案例推動，EB1A案例也佔了一定的比例。 EB1B 批准數量雖然不多，但保持穩定，而 O1A 批准則相對較少。

學術產出四分位數統計

EB1A案件（共22件）

• 發表文章數量範圍：3 至 144 篇
  • Q1 = 16.25｜ 中位數 = 25.5 ｜ Q3 = 34.75
• 被引次數範圍：128 至 9,524 次
  • Q1 = 326.5｜ 中位數 = 804.5 ｜ Q3 = 2,838.25

與近幾週趨勢一致，成功獲准的 EB1A 案件不僅擁有較好的論文與引用表現，更普遍具備持續性的專業認可、行業影響力以及能夠支撐最終整體評估（Final Merits Determination）的綜合實力。

NIW案件（共102件）

• 發表文章數量範圍：2 至 43 篇
  • Q1 = 5 ｜ 中位數 = 8 ｜ Q3 = 13
• 被引次數範圍：9 至 6,628 次
  • Q1 = 62 ｜ 中位數 = 135 ｜ Q3 = 259

相較之下，本週 NIW 獲准申請人再次展現出更廣泛的背景分佈。與 EB1A 相比，NIW 獲准者包含更多處於職業發展早期的研究人員、醫生以及產業專業人士。本週的批准結果繼續印證了NIW的評審重點在於擬議事業（Proposed Endeavor）的國家重要性以及申請人推進該工作的能力，而不僅僅是其學術成績。

背景與研究方向觀察

本週 EB1A 批准案件仍集中於 STEM 領域，其中 STEM 案件19件，非STEM案件3件。批准領域包括人工智慧、生物技術、材料工程、醫學以及教育研究等。申請人的職業背景涵蓋博士後研究員、教授、研發工程師、醫學總監以及企業研發負責人等不同類型。學歷方面，包括 13位博士、3位碩士、3位學士以及3位專業博士。整體來看，本週 EB1A 依然更傾向於批准能夠充分證明申請人在學術界或產業界持續獲得專業認可的申請人。

NIW 批准案件則繼續涵蓋更廣泛的研究、工程、醫學及跨學科領域，同時仍以 STEM 為主，佔 91件 STEM、11件非STEM。主要批准領域包括電腦科學、生物醫學工程、化學、放射醫學、經濟學、藥學等。獲准申請人包括博士生、博士後研究員、醫生、工程師以及產業專業人士等多種職業背景。學歷組成方面，共有 40位博士、46位碩士、5位學士以及11位專業博士。這項分佈再次反映出，只要擬議事業（Proposed Endeavor）能夠與美國重要國家利益建立清晰聯繫，NIW 能夠適用於不同教育背景及職業發展的申請人。

重點 NIW 案例：6篇論文、9次引用的半導體材料工程師獲得批准

本週重點案例是一位半導體工程領域專業人士的 NIW 批准。該申請人在完成博士學位後進入產業界發展，在遞交申請時擁有6篇同儕審查論文和僅9次引用。案件以加急處理服務（Premium Processing）直接遞交，並於兩個月內順利批准。其擬議事業（Proposed Endeavor）聚焦於優化半導體材料工程技術，提升美國半導體裝置製造的可擴展性與可靠性。透過突顯擬議事業本身所具有的國家重要性，我們成功證明了申請人的工作不僅服務於單一雇主，而是能夠支持美國半導體產業及關鍵技術發展的更廣泛國家利益。

本案最大的法律策略，在於將審理重點放在擬議事業本身，而非申請人目前所從事的具體工作。申請資料並未將重點放在企業內部的專有技術，而是系統闡述半導體製造技術如何直接服務美國先進製造、人工智慧基礎設施、經濟競爭力及國家安全等國家戰略目標。我們結合聯邦研究政策、半導體產業發展數據以及政府支持的科學研究計畫等客觀證據，證明申請人的擬議事業所產生的影響遠遠超出任何單一企業。

在 Dhanasar 第二項標準具備推進該工作的能力（Well Positioned）方面，我們沒有依賴引用數量，而是圍繞申請人的綜合能力建立完整論證。申請材料重點展示了其博士訓練背景、相關產業經驗、高品質同行評審論文以及獲得的重要研究資助。同時，透過四封證明信（Testimonial Letter），從美國半導體產業發展的角度進一步說明申請人工作的國家重要性，共同證明申請人具備持續推進擬議事業的能力。

申請書進一步指出，半導體製造屬於快速發展的國家戰略領域，需要超越標準勞工認證流程的專業彈性，要求提供永久性工作機會將不必要地延誤直接支援國家級重要半導體專案的工作。本案例表明，NIW申請的成功並不取決於高引用率。相反，它依賴於清晰界定擬議事業，將其與客觀的國家優先事項聯繫起來，證明其未來潛力，並系統地滿足Dhanasar標準，而不是僅僅關注傳統的學術指標。

審理趨勢與政策觀察

本週批准情況再次反映出，USCIS 在 EB1A 與 NIW 的審理過程中仍嚴格區分兩者適用的法律標準。 EB1A 批准案件整體仍集中於具備較強專業認可和行業影響力、能夠支撐最終整體評估（Final Merits Determination）審查的申請人；而 NIW 則繼續涵蓋更加廣泛的論文、引用及職業背景。無論屬於哪一類別，真正成功的申請往往並非單純依賴背景數據，而是能夠將所有證據整合到清晰、完整且符合法律標準的論證框架之中。

本週的半導體案例也進一步反映出產業向 NIW 申請的重要發展趨勢。隨著 USCIS 越來越重視擬議事業的國家重要性，成功案件越來越強調擬議事業與單一雇主之間的區分，並透過政府政策、行業數據、專家意見以及領域相關證據，證明申請人的工作能夠帶來更廣泛的社會、科技及經濟影響。特別是在先進製造、關鍵技術等國家戰略領域，能夠將客觀證據與 Dhanasar 三項標準有機結合的申請，仍然更容易獲得審理官的認可。