成功经验：我们的专业团队协助中国博士后学者成功取得NIW批准

“非常感谢你们对我I-140 NIW申请的协助。这是一次非常好的经验！我特别想提到，推荐信与申请信的初稿品质非常高，这也是我的两位推荐人都指出的优点。在后期阶段，虽然因为讯息往来较多导致有一则讯息被漏掉而稍有延误，但律师在我提醒后很快就妥善处理了！”

2025 年 3 月 20 日，我们收到一位高分子材料领域博士后研究学者的EB-2 NIW批准通知（批准通知）

领域：高分子材料

递交申请时的身份：博士后研究学者

国籍：中国

申请时居住州：加利福尼亚州

批准通知书日期：2025 年 3 月 20 日

处理时间：6个月又3天（申请升级为加急处理）

案例总结：

我们非常荣幸分享这位来自中国的高分子材料研究人员的成功案例。在升级为加急处理后，她的I-140 NIW申请于6个月又3天后顺利获批。本案清楚展现了如何透过聚焦于尖端科技领域的科研成果来符合国家利益豁免的标准。

申请人拥有化学工程博士学位，其研究聚焦于次世代微电子晶片的製造流程与材料创新。她特别致力于开发高精度图案化技术，结合高分子材料创新，促进先进半导体节点的大规模製造能力。这些贡献对于强化美国半导体产业、维持国家科技领先地位具有关键作用。

她以EB-2 NIW类别提出申请，并提交了以下证据：

- 13篇经同侪审查的期刊文章、1篇会议论文与3篇会议摘要，
- 累计323次引用，突显其研究在全球的影响力，
- 曾为高分子化学与奈米科技领域的权威期刊担任同侪审稿人，已完成至少3篇审稿，
- 至少6篇论文被列为其发表年份中材料科学领域前10–20%最常被引用的文章。

我们也证明，她的研究成果已被来自学术界与国家实验室的独立研究人员广泛应用。她在高分子材料与奈米製程方面的创新技术已被应用于半导体表面修饰、选择性沉积技术，以及生物物理研究的推动，这些成果不仅为美国微电子产业打下基础，也被多家顶尖研究机构採用。

她的研究工作亦获得了美国多个联邦机构的资助，包括国家科学基金会（NSF）与能源部（DOE），进一步证明其研究对国家能源、科技与製造韧性战略目标的高度关联与价值。

本案的申请还附上两封来自专业领域专家的推荐信，强化其研究成果对学术界与产业界的重大贡献。

我们很荣幸能在她的移民旅程中提供支持。她的研究对于推动美国微电子领域的科学进展与经济发展具有重要意义。我们也期待她持续为半导体创新作出更多贡献。