成功经验:南韩首席设计工程师NIW获得批准,并即将迈入移民签证程序!

客户感言

谢谢北美联合律师事务所。经过漫长的等待,我终于得到令人高兴的结果。

 

 

 


 

2017 年 5 月 3 日,我们又收到一位电子工程首席设计工程师的EB-2 NIW批准通知! (批准通知

 


 

领域:电子工程学

递交申请时的身份:首席设计工程师

国籍:南韩

服务中心:内布拉斯加服务中心(NSC)

申请时居住地:美国境外

批准通知书日期:2017 年 5 月 3 日

处理时间:13 个月 29 天

 


 

案例总结:

 

经过初步评估,北美联合律师事务所(North America Immigration Law Group, NAILG)认为该客户非常适合申请EB-2 NIW (National Interest Waiver)。我们在准备申请时,呈现了他对电子工程学领域的贡献,尤其是他在半导体设计技术的能力,对美国非常重要。尽管他的申请一度被发出补件通知(Request for Evidence, RFE),这位驻南韩的首席设计工程师最终仍获得EB-2 NIW批准。

 

我们详细解释为何应让客户在美国进行研究,主要原因就是他的半导体回路设计研究具有突破性,这个基础电脑及电子机械科技能够强化机械运作,并且为美国电子工业带来直接贡献。

 

我们也详细说明客户的学术成就,包括6篇研讨会论文以及153次他人引用纪录。除此之外,他还有18项美国专利,显示他身为电子工程师的独创能力和专业技术。

 

另外还有五位杰出的电子工程学专家为客户提供推荐信,一位助理教授写道:

 

“Without [Client’s] presence in electrical engineering, the field would be at a considerable disadvantage, for he has been a primary player in recent advancements and will certainly continue in this role. I am certain that the United States would be prudent to support [Client’s] important work in whatever manner possible.”

 

由此可知,这五位专家的赏识之词显示客户实为领域之中的佼佼者。

 

虽然这个批准得来不易,我们恭喜客户得到国家利益豁免也感谢他委托我们继续代表他办理移民签证程序(Immigration Visa Processing; IVP)。除了向客户承诺我们的服务不会中断以外,我们也期待看到他和家人在我们的协助之下取得绿卡。