成功经验：双重成功！中国籍製程整合工程师透过加急处理服务获得NIW与EB1A批准

客户感言：

“我真心感谢这个团队在我申请绿卡过程中的出色协助。他们的回复总是迅速且结构清晰，展现出逻辑清楚与优秀的沟通能力。负责我案件的律师非常专业、细心，并且在整个过程中展现出极大的耐心。我真心感激他们的专业与投入，也非常推荐他们的服务给寻求可靠移民法律支援的朋友。”

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2023 年 11 月 2 日及2025 年 5 月 28 日，我们分别收到一位材料科学领域製程整合工程师的EB-2 NIW (National Interest Waiver)和EB-1A (Alien of Extraordinary Ability)批准通知。（批准通知）

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领域：材料科学

递交申请时的职位：製程整合工程师

国籍：中国

申请时居住地：加利福尼亚州

批准通知书日期：2023 年 11 月 2 日（NIW）及2025 年 5 月 28 日（EB1A）

处理时间：17天（NIW）及1个月（EB1A）（申请加急处理）

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案例总结：

这是一个展现科学影响力与策略性申请规划的典范。一位学术成就卓越的博士学者，近日顺利获得EB1A与NIW I-140双重批准。NIW仅在17天内核准，EB1A则在一个月内透过加急处理成功获批。

此成功案例突显了在美国创新与产业竞争力至关重要的领域中，清楚呈现持续影响力与未来潜力证据的关键价值。

突破半导体技术的界限

本案申请人致力于推进低维材料、电子装置与互补式场效电晶体（CFET）的奈米製程研发，并优化先进製程节点的半导体整合技术。他的研究涵盖多项重大突破，包括：

• • 低维度场效电晶体技术
  • 藉由CVD/ALD技术实现选择性氧化物与氮化物製程
  • 石墨烯奈米带电晶体製造技术
  • 光响应奈米材料与微流体装置製造技术

目前，他任职于美国一家顶尖半导体公司，担任製程整合工程师，专注于开发下一代先进製程节点的製造流程。他的工作直接支持美国在微电子、国防与运算基础建设方面的国家发展重点。

业界公认的领袖人物

我们在申请中强调了他在学术界的独立贡献与深远影响力：

• • 文章总引用次数超过300次，其中几篇为工程领域前1–10%最常被引用的文章
  • 发表26篇国际期刊的同侪审查文章
  • 完成超过50次期刊与会议的审稿任务

他的研究已被来自超过30个国家的学者引用，其h-index为10，显示其在电子工程领域发表学者中居于前列。

获独立专家推荐

他的申请书中包含了4封推荐信，其中3封来自与申请人无直接合作关係的独立专家。这些推荐人均为材料科学与半导体工程领域的知名学者，他们一致肯定申请人在原创性、影响力与实用性方面的卓越表现。

“Nanoscale science and technology refers to engineering and science operated on the nanometer scale, and there is now an increasing demand for devices with enhanced functionalities, improved performance, and state-of-the-art features that are only achievable through nanofabrication. [Client] is pivotal in addressing this demand, as he is highly proficient in nanofabrication processes such as photolithography, surface characterization, film deposition, and etching. He is clearly a leader in his field.”

已证实的影响力，未来潜力无限

这名客户EB1A与NIW双双获批，充分展现其作为一位兼具杰出能力与国家重要性之科学家的地位。他在材料科学与半导体创新方面的持续贡献，与美国在先进製造、技术领导与研究驱动经济发展的国家战略高度契合。

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