成功經驗：雙重成功！中國籍製程整合工程師透過加急處理服務獲得NIW與EB1A批准

客戶感言：

“我真心感謝這個團隊在我申請綠卡過程中的出色協助。他們的回覆總是迅速且結構清晰，展現出邏輯清楚與優秀的溝通能力。負責我案件的律師非常專業、細心，並且在整個過程中展現出極大的耐心。我真心感激他們的專業與投入，也非常推薦他們的服務給尋求可靠移民法律支援的朋友。”

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2023 年 11 月 2 日及2025 年 5 月 28 日，我們分別收到一位材料科學領域製程整合工程師的EB-2 NIW (National Interest Waiver)和EB-1A (Alien of Extraordinary Ability)批准通知。（批准通知）

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領域：材料科學

遞交申請時的職位：製程整合工程師

國籍：中國

申請時居住地：加利福尼亞州

批准通知書日期：2023 年 11 月 2 日（NIW）及2025 年 5 月 28 日（EB1A）

處理時間：17天（NIW）及1個月（EB1A）（申請加急處理）

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案例總結：

這是一個展現科學影響力與策略性申請規劃的典範。一位學術成就卓越的博士學者，近日順利獲得EB1A與NIW I-140雙重批准。NIW僅在17天內核准，EB1A則在一個月內透過加急處理成功獲批。

此成功案例突顯了在美國創新與產業競爭力至關重要的領域中，清楚呈現持續影響力與未來潛力證據的關鍵價值。

突破半導體技術的界限

本案申請人致力於推進低維材料、電子裝置與互補式場效電晶體（CFET）的奈米製程研發，並優化先進製程節點的半導體整合技術。他的研究涵蓋多項重大突破，包括：

• • 低維度場效電晶體技術
  • 藉由CVD/ALD技術實現選擇性氧化物與氮化物製程
  • 石墨烯奈米帶電晶體製造技術
  • 光響應奈米材料與微流體裝置製造技術

目前，他任職於美國一家頂尖半導體公司，擔任製程整合工程師，專注於開發下一代先進製程節點的製造流程。他的工作直接支持美國在微電子、國防與運算基礎建設方面的國家發展重點。

業界公認的領袖人物

我們在申請中強調了他在學術界的獨立貢獻與深遠影響力：

• • 文章總引用次數超過300次，其中幾篇為工程領域前1–10%最常被引用的文章
  • 發表26篇國際期刊的同儕審查文章
  • 完成超過50次期刊與會議的審稿任務

他的研究已被來自超過30個國家的學者引用，其h-index為10，顯示其在電子工程領域發表學者中居於前列。

獲獨立專家推薦

他的申請書中包含了4封推薦信，其中3封來自與申請人無直接合作關係的獨立專家。這些推薦人均為材料科學與半導體工程領域的知名學者，他們一致肯定申請人在原創性、影響力與實用性方面的卓越表現。

“Nanoscale science and technology refers to engineering and science operated on the nanometer scale, and there is now an increasing demand for devices with enhanced functionalities, improved performance, and state-of-the-art features that are only achievable through nanofabrication. [Client] is pivotal in addressing this demand, as he is highly proficient in nanofabrication processes such as photolithography, surface characterization, film deposition, and etching. He is clearly a leader in his field.”

已證實的影響力，未來潛力無限

這名客戶EB1A與NIW雙雙獲批，充分展現其作為一位兼具傑出能力與國家重要性之科學家的地位。他在材料科學與半導體創新方面的持續貢獻，與美國在先進製造、技術領導與研究驅動經濟發展的國家戰略高度契合。

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