成功經驗：我們的專業團隊協助中國博士後學者成功取得NIW批准

客戶感言：

“非常感謝你們對我I-140 NIW申請的協助。這是一次非常好的經驗！我特別想提到，推薦信與申請信的初稿品質非常高，這也是我的兩位推薦人都指出的優點。在後期階段，雖然因為訊息往來較多導致有一則訊息被漏掉而稍有延誤，但律師在我提醒後很快就妥善處理了！”

2025 年 3 月 20 日，我們收到一位高分子材料領域博士後研究學者的EB-2 NIW批准通知（批准通知）

領域：高分子材料

遞交申請時的身份：博士後研究學者

國籍：中國

申請時居住州：加利福尼亞州

批准通知書日期：2025 年 3 月 20 日

處理時間：6個月又3天（申請升級為加急處理）

案例總結：

我們非常榮幸分享這位來自中國的高分子材料研究人員的成功案例。在升級為加急處理後，她的I-140 NIW申請於6個月又3天後順利獲批。本案清楚展現了如何透過聚焦於尖端科技領域的科研成果來符合國家利益豁免的標準。

申請人擁有化學工程博士學位，其研究聚焦於次世代微電子晶片的製造流程與材料創新。她特別致力於開發高精度圖案化技術，結合高分子材料創新，促進先進半導體節點的大規模製造能力。這些貢獻對於強化美國半導體產業、維持國家科技領先地位具有關鍵作用。

她以EB-2 NIW類別提出申請，並提交了以下證據：

- 13篇經同儕審查的期刊文章、1篇會議論文與3篇會議摘要，
- 累計323次引用，突顯其研究在全球的影響力，
- 曾為高分子化學與奈米科技領域的權威期刊擔任同儕審稿人，已完成至少3篇審稿，
- 至少6篇論文被列為其發表年份中材料科學領域前10–20%最常被引用的文章。

我們也證明，她的研究成果已被來自學術界與國家實驗室的獨立研究人員廣泛應用。她在高分子材料與奈米製程方面的創新技術已被應用於半導體表面修飾、選擇性沉積技術，以及生物物理研究的推動，這些成果不僅為美國微電子產業打下基礎，也被多家頂尖研究機構採用。

她的研究工作亦獲得了美國多個聯邦機構的資助，包括國家科學基金會（NSF）與能源部（DOE），進一步證明其研究對國家能源、科技與製造韌性戰略目標的高度關聯與價值。

本案的申請還附上兩封來自專業領域專家的推薦信，強化其研究成果對學術界與產業界的重大貢獻。

我們很榮幸能在她的移民旅程中提供支持。她的研究對於推動美國微電子領域的科學進展與經濟發展具有重要意義。我們也期待她持續為半導體創新作出更多貢獻。